关于钨球的电解抛光过程

作为一种稀有金属，钨具有良好的电导率和低的热膨胀系数，这使其适合制造集成电路。较高的熔点和高温耐药性使用于扫描电子显微镜的生产细丝和喷嘴的钨，在电解抛光过程之后，在微电源，精密仪器和医疗治疗的领域中，大规模使用Tungsten。作为钨的产物，什么是电解抛光钨球，有什么条件？让我们来看看。

以下是内容列表：

l引入钨球电解抛光过程

l改变抛光过程参数对钨球电解抛光的影响

l钨球的结论电解抛光过程

引入钨球电解抛光过程

钨球的电解抛光是一种方法，其中钨合金球被用作阳极和不溶性金属作为阴极，阴极和阳极同时浸入电解浴中，并将直流电流应用于使钨球的表面形成氧化膜并连续溶解，以减少表面粗糙度并改善钨球的光泽。

该过程具有高生产率，简单和方便的操作，低材料损失的优势，并且可以处理复杂形状的工件。在国内外，通常用于钨电解抛光的电解抛光溶液主要是碱性碱性，电解抛光后的钨球的表面是光滑的，无刮擦的，具有高反射镜反射率和降低的表面粗糙度，为新的溶液提供了新的解决方案钨的表面处理。

改变抛光过程参数对钨球电解抛光的影响

在同一时间的情况下，当电压低时，相同的温度和不同的电压，许多条纹和划痕留在钨球的表面上。随着电压的增加，划痕逐渐减小，表面变得越来越光泽和平坦，直到22V，钨合金球的表面是最坦率的，没有划痕。当电压太高时，局部区域的电流密度太高，钨球的表面层受损，在表面上产生无法从表面逸出的气泡簇，从而产生蚀刻坑和奇异的凹坑和pock凹陷。表面。

在同一时间的情况下，相同的电压和不同的温度，低温将增加溶液的粘度，使阳极粘液膜增厚，这不利于阳极产物的扩散，因此钨的表面是球被捕获的气泡，导致奇异和图案。由于温度往往接近20℃，因此样品表面上的划痕逐渐降低，钨球往往平坦且光滑，电解抛光的效果更为明显。当温度继续升高时，样品的表面再次出现在陨石坑和划痕上。这是由于高温导致局部腐蚀太快的原因，导致陨石坑和划痕。

在相同温度的情况下，相同的电压和不同的时间，抛光时间太短，抛光时间不完整，钨球的表面仍然有大量的白色颗粒和一些划痕。随着时间的增加到7分钟，钨球的表面没有划痕，没有凹坑缺陷，并且所得的表面更好。如果继续进行抛光，它将导致表面过度抛光和碎屑。

钨球的结论电解抛光过程

从实验数据中可以发现，通过在同一电解质下更改电压，温度和时间的三个电解抛光过程参数，可以获得钨球的不同趋势。在硫酸甲醇电解质中，钨球的最佳抛光效果只能在22 V，温度为20°C的电压下获得，温度为20°C，时间为7分钟。

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